本月，皓宇電子自主研發的12英寸多腔多工位CVD設備與8英寸多腔多工位CVD設備量產。這一里程碑不僅標志著公司完成了從架構設計、樣機驗證到系統交付的技術閉環，更實現了國內在該設備架構類別的首次工程化部署，填補了國產細分領域空白。

對標先進技術路線，構建原創技術體系

皓宇電子自2020年起專注于“多腔多Station”CVD設備的自主研發，該架構已成為全球主流廠商布局的下一代CVD技術核心方向。不同于市場上仍普遍采用的“twinchamber”架構，皓宇電子選擇了技術門檻更高的“多工藝腔-多Station”模式，以提升沉積路徑一致性和厚膜工藝效率，在工藝穩定性、設備兼容性、產線產能提升與成本控制等關鍵維度，形成顯著競爭優勢。

區別于傳統的“外觀對標+參數拼接”策略，皓宇電子自主構建了完整的國產化CVD設備體系，涵蓋從結構設計到控制平臺的全鏈路創新：

工藝腔優化——提升膜層均勻性與沉積速率；

氣路系統自主設計——實現精準流量與成分控制；

溫控系統增強——保障沉積穩定性與工藝一致性；

搬運平臺優化——提高設備兼容性與節拍控制精度；

射頻功率控制+智能調度算法——確保復雜工藝精度與一致性。

12英寸多腔多工位CVD

知識產權護航，構建可持續演進能力

皓宇電子自2021年起建立自主知識產權體系，目前已累計百余項專利布局，覆蓋多工藝腔-多Station架構、加熱系統、功率系統、傳輸機構、智能算法及核心零部件等多個關鍵技術領域。這些專利不僅形成了核心模塊的技術護城河，更為整機的獨立演進與橫向拓展奠定了基礎，使設備能夠靈活適配更多先進制程和新材料應用。

工程落地前移，國產化競爭力凸顯

皓宇電子的CVD設備在量產部署階段展現出多項市場化優勢：

緊湊設計——占地優化，適配晶圓廠廠房布局；

高核心部件國產化率——遠超主流Fab標準，提升供應鏈安全性；

兼容多種材料工藝——適配邏輯、存儲、功率器件等應用場景；

自研控制系統——提供溫控精度、氣路調度與功率管理的閉環優化；

成熟供應鏈體系——具備批量交付與快速響應能力；

降本增效方案支持——通過結構優化與核心部件自研，打造“低成本、高效率”的整機體系，幫助客戶在降低采購成本的同時提升生產效率；

按需配置靈活選型—— 核心部件支持國產替代與進口靈活選擇，滿足不同客戶多層次需求與策略部署。

8英寸多腔多工位CVD

作為國內首家完成“多腔多Station”CVD設備量產的企業，皓宇電子不僅填補了該技術路線的國產空白，更為國產半導體設備邁向“高端可用、廣域適配”提供了可借鑒的創新樣本。

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