近期，深圳一家企業突然“出圈”，成為眾人矚目的焦點。

在近日舉辦的上海SEMICON China 2025半導體展期間，國產芯片設備公司“新凱來”引發媒體集中報道，甚至被認為是“半導體設備領域的DeepSeek”！其發布6大類31款新品，覆蓋刻蝕產品、擴散產品、薄膜產品以及物理量測、X射線量測、光學量檢測6大類，更是引發公眾高度關注。

具體來說，新凱來正在利用多重圖形曝光等技術提升芯片制造工藝，公布包括擴散外延沉積EPI設備（峨眉山系列）、RTP（三清山系列）、原子層沉積ALD設備（阿里山系列）、物理氣相沉積PVD設備（普陀山系列）、刻蝕ETCH設備（武夷山系列）、薄膜沉積CVD設備（長白山系列）和量檢測設備(包括岳麓山、丹霞山、蓬萊山、莫干山、天門山、沂蒙山、赤壁山及功率檢測RATE系列）產品。

這次是新凱來成立近四年來首次對外公開產品線，也被市場稱為國產芯片設備的“重大突破”。深圳夢發現，這31款新品中用了13座中國名山命名，令人印象深刻，大有登峰之寓意！對深圳而言，這或像深圳DeepSeek級引爆。

新凱來全稱是“深圳市新凱來技術有限公司”，成立于2021年8月，隸屬于深圳市重大產業投資集團，是深圳國資委全資子公司。其設計理念為“一代工藝、一代材料、一代裝備”，業務范圍涵蓋半導體裝備及零部件研發和制造，半導體制造過程中所需的關鍵設備和零部件等。

值得注意的是，在今年Semicon China同期舉辦的IC產業鏈國際論壇-制造設備與制程分論壇上，新凱來工藝裝備產品線總裁杜立軍發表了題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講，信息量很大。他在演講中發出靈魂之問：“第四代工業革命呼之欲來，人工智能產業給半導體行業帶來的巨大的空間。在這種趨勢下，我們的問題是——中國本土的半導體裝備產業到底能給我們半導體的發展貢獻什么樣的份額？貢獻什么樣的技術力量來推動我們整個產業一塊進步？”深圳夢特別在此推薦，供大家參考。

新凱來工藝裝備總裁杜立軍，演講全文

在剛結束的SEMICON CHINA上，深圳市新凱來工業機械有限公司工藝裝備產品線總裁杜立軍先生發表了題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講。杜立軍先生曾在全球領先的ICT公司服務了20余年，歷任高級研發專家、研發部長、產品領域總經理的職務，他主導了半導體工藝裝備核心技術的戰略布局，帶領業務快速推進，打造了系列有競爭力領先的產品，實現了業績快速的成長。

他的演講題目是《半導體工藝裝備的挑戰與機遇》。

以下為演講原文：

女士們先生們，大家上午好。首先非常感謝主辦方給我們提供了這樣的一個好的機會，在春機盎然的季節相聚在上海。

今天外面春雨婆娑。好雨知時節，當春乃發生，新凱來也是應季而生。我們新凱來工業機器的主營業務是工藝裝備和量檢測裝備。這幾年來我們一直潛心做了一些技術準備和產品開發。今天很高興能有這個機會代表新凱來跟大家分享這幾年來我們的一些淺顯的理解。

第四代工業革命呼之欲來，人工智能產業給半導體行業帶來的巨大的空間。在這種趨勢下，我們的問題是——中國本土的半導體裝備產業到底能給我們半導體的發展貢獻什么樣的份額？貢獻什么樣的技術力量來推動我們整個產業一塊進步？

從無論是存儲還是邏輯的演進來看，PPAC（功耗性能，面積以及成本）可能是我們跨不過去、的永恒的追求的命題。無論是在Logic、DRAM，還是NAND，從我們整體的發展來看，每一代半導體器件的演進，圍繞著PPAC的性能都有10%到50%的提升。

由PPAC的提升，我們可以看到半導體裝備和器件主要圍繞著兩大類問題來解決我們的一些困難：第一，想盡一切辦法來降低RC Delay；第二就是要把晶體管尺寸進一步微縮，做到把更多面積來布局晶體管。那么從解決路徑上來看的話，無非三條路徑：

一、新材料的開發，由材料的進步來推動我們整體性性能的提升。從尺寸微縮的角度來看的話，我們可能有兩類技術。第一類就是利用先進的光刻技術，把CD進一步的縮小。

眾所周知，在先進的光刻技術方面，我們現在面臨的一些困境。這就促使我們去探索是否有非光的技術來“補光”。行業對此也有一定的共識，類似SAQP就是其中的一種解決方法。

面對光刻的套刻問題的，行業也奔向了選擇性沉積等等一系列技術?？赡苡幸粭l路徑，我們用非光的技術，也就是用我們的工藝裝備，能夠解決一部分光刻的問題。

第三類也基本上是我們大家看到的一個行業共識。我們2D的架構在面積上不滿足性能的需求，那么下一步是不是可以走向3D？我們的GAA，無論是在邏輯上還是在NAND上面，大家都在朝這個方向做探索。

對于這三條路徑上面來看的話，一代材料的開發，從場景到我們的真正的工程應用，需要我們行業的同仁大家一起來努力。

由于我們CD的微縮以及多重曝光等工藝的應用，我們會發現我們下一代工藝的原子層刻蝕和原子層沉積的應用會逐漸變多。同時還帶來另外一個問題，如果我們用而且SAQP等多重曝光的技術，那么我們可能看到我們整個全流程工藝的道數可能會有20%的增加，這就會要求我們良率以及每臺設備的工藝窗口都要同等的進步。對于我們的裝備來講，如果能夠把它的工藝窗口擴大，這也會給我們整個公益flow良率的提升也會帶來巨大的優勢。

同時，3D的架構會帶來更多選擇性，也會帶來我們在選擇性以及在AND/ALE等各種技術的綜合應用，也會對我們的設備帶來巨大的挑戰。

在新的裝備技術上，在三類能量的管理基礎上面，我們要在三個維度有量級的提升：

第一，我們需要更高的能量控制精度。那么無論是等離子體的能量，還是我們熱的能量，都需要更精準的控制。

第二，我們看到大量的ALD和ALB技術的應用，需要我們硬件的響應速度要有倍數的提升。

第三，我們設備的工藝窗口是不是能做得更大？這也是一個永恒的命題。

以等離子體和射頻場的能量管理為例，從7納米到3納米的演進過程當中，我們預測可能會有10倍的能量精度提升。從我們硬件電路上面的時延同步以及響應的速度上來看，它同樣有著10倍的提升。比如說時延，可能會實現從10毫秒到一毫秒的響應速度的提升。

至于窗口的尋優，除了要在我們的架構上面能夠打開一些工藝窗口之外，我們是不是有更優的輔助分析和提升效率的手段？那么人工智能的智能調優、大數據，包括我們強大的硬件的計算，這也是對我們硬件和算法提出了更新的一個命題。

等離子體這一類能量大概占了我們工藝裝備的5成。那么以這類的能量的管理來看，行業內基本上是兩類的這個觀點：一類是仿真派，另一類是實驗派。這兩派的觀點大家相互交織，在技術上面大家一起競爭了很多年。

從過去兩年來看，行業內領先的廠商已經被國內國際的頭牌大廠收購了，這個背后是什么樣的一技術發展原因呢？我們的理解是在真正到了細微的能量管理之后，我們的正向設計能力，我們的仿真與我們的診斷它是分不開的。只有真正把我們的腔室的第一性原理搞透，才能夠指導我們未來的精細化設計方向。這也是我們新凱來在幾年前就布局了等離子體仿真軟件的原因。

我們從原子的物理模型開始，到腔室的一些化學，包括反應的模型，以及到診斷，我們構建了全面的仿真診斷的設計能力。我們現在的這套仿真軟件能力可以對標行業最先進公司的仿真精度和準度。那么我們這套軟件叫問源，取自于我們一句詩——問渠哪得清如許，為有源頭活水來。

剛才講到仿真，這是行業的一個方向，那么新凱來在這個地方我們已經布局完成。

那么光有設計，怎么來實現？實際上從設計到實現這個過程，也是非常挑戰。比如說我們的射頻源、匹配器、卡盤、線圈磁控管、氣體閥、氣體閥以及探測器，也要同步能夠適配我們的設置。新凱來也是從系統設計到硬件架構，再到器件和算法上面都做了完整的布局。這是在等離子體技術方向上面給大家介紹一下我們整體的技術的進展情況。

從硬件的響應速度來看的話，我們看到從傳統CVD/ETCH到ALD和ALE的應用轉變，會給我們整個設備的瞬態響應時間以及穩定時間，也是有一個量級的提升。

那么，怎么能夠才能夠非常好的一個ALD特性？我們認為，對于一臺設備，它的整個控制系統是非常關鍵的。過去大家看到用的大多數是PLC控制系統。過去幾年，我們行業的同仁已經基本上看到我們在先進的處理器和邏輯的系統上面的應用逐漸會多起來。那么怎么樣才能夠把我們的硬件的系統做到快。準、穩，這是一個未來避不開的命題。

有見及此，新凱來構建了全套的自研的控制系統。與傳統的PLC相比，我們當前的設備已經是能夠在我們的控制能力上有一個倍率的提升。

展望未來，我們的工藝窗口是一個大的挑戰，那么有什么樣的方法能夠把我們的硬件的窗口做大。能夠給我們工藝工程師提供一個非常方便快捷的操作的一些方法。那么我們看AI的應用，從半導體裝備的物理模型以及設計數據，到我們晶圓廠的整體的運營數據以及功率模型，這個地方大有可為。我們設備有萬千的參數，萬千的運行過程當中的各種特性。我們還沒有真正的把它利用起來。大數據的應用以及我們物理模型的綜合的仿真模型，能夠支撐我們實現一些在智能的調優尋優以及在面向未來的智能維護方向上面，能夠給我們提供一些指導。

我們在我們的底層的硬件與軟件架構上面，我們已經做了面向未來的AI智能調優和智能運維的布局調試。針對某一個關鍵部件，我們做了一些嘗試，在它的整個生命周期當中，我們可以它的壽命準確率能做到10天以內，這是基于它的器件運行的物理特性，以及它對工藝結構的影響，最終做出來的一個模型，也希望我們在未來的大的模型上面，能夠給我們的客戶提供一個比較優的解決方案。

新凱來整體的設計理念是一代工藝，一代材料，一代裝備。我們希望在底層的精準能量控制、智能的窗口調優以及快穩準的控制系統上面，給我們的工藝的開發以及材料的演進插上翅膀。希望在未來的更精細化的管理上面能夠提供一個更優的解決方案。

基于上面的理念，新凱來在過去的幾年開發了6大類工藝產品和檢測產品，涵蓋了我們的邏輯和存儲的各種場景。并且，我們在先進的架構上面支持向未來演進。

半導體物理極限的探索，是我們半導體人永恒的追求，也是星辰大海。新凱來也希望秉持我們以技術為本的初心，能夠和我們的伙伴們一起聯合創新，大家協同共贏，一起面向未來。我們也希望能給我們的客戶一個新的選擇。

芯世界、新選擇、新凱來，感謝大家。

(內容來源：芯視點）

解碼新凱來SEMICON首秀：

多款國產半導體裝備齊亮相，

能否重塑行業格局？

在SEMICON China 2025展會現場，深圳新凱來工業機器有限公司推出覆蓋半導體制造多個核心流程的工藝裝備與量檢測裝備矩陣。這家企業已形成滿足邏輯、DRAM、NAND產品制造需求的產品矩陣，并支持從PlanarFET到GAAFET的工藝演進。

3月27日，在SEMICON China 2025展會現場，深圳新凱來工業機器有限公司（以下簡稱新凱來）的展位頗受關注。這家半導體裝備廠商覆蓋半導體制造多個核心流程的工藝裝備、量檢測裝備矩陣。

半導體設備的研發并非一朝一夕之功，而新凱來已經形成產品矩陣，滿足邏輯、DRAM（內存）、NAND（閃存）產品的制造，并支持PlanarFET（場效應晶體管）、FinFET（鰭式場效應晶體管）向GAAFET（全環繞柵極晶體管）工藝演進。

“工藝裝備”多品類產品矩陣

根據頭豹研究院，半導體設備可分為前道設備和后道設備，前道設備主要用于晶圓制造，涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等工藝，所對應的核心專用設備包括光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備、測量設備等，其中光刻設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備是半導體前道生產工藝中的三大核心設備。

根據國際半導體產業協會（SEMI），前道設備（晶圓制造）投資量占半導體設備投資量約80%，封裝和測試設備占比分別約為10%和8%。在晶圓制造設備中，刻蝕設備、薄膜沉積設備和光刻機分別占前道設備價值量的22%、22%和17%。

此次新凱來推出的“工藝設備”中，就包括刻蝕設備和薄膜沉積設備。新凱來將其刻蝕設備命名為“武夷山”，產品包括武夷山1號、武夷山3號和武夷山5號。

其薄膜設備覆蓋了CVD（化學氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）和ALD（原子層沉積）三大主要薄膜沉積設備。其中CVD有長白山1號和長白山3號；PVD有普陀山1號、普陀山2號和普陀山3號；ALD有阿里山1號、阿里山2號和阿里山3號。

除了兩大核心設備外，新凱來也推出外延生長設備（EPI）和RTP（快速熱處理設備），EPI包括峨眉山1號、峨眉山2號和峨眉山3號；RTP包括三清山1號、三清山2號和三清山3號。

SEMICON China 2025展會現場 圖片來源：每經記者 朱成祥 攝

突破薄弱環節，推出多種量測產品

根據頭豹研究院，整體上，我國在去膠、清洗、刻蝕設備方面國產化率較高，在CMP、熱處理、薄膜沉積上近幾年國產化突破明顯，而在量測、涂膠顯影、光刻、離子注入等設備上，仍較為薄弱。

此次新凱來推出的產品中，光學量測產品包括天門山DBO（衍射套刻量測）、天門山IBO（圖形套刻量測）；PX（物理和X射線）量測產品包括沂蒙山AFM（原子力顯微鏡量測）、赤壁山XP XPS（X射線光電子能譜量測）、赤壁山XD XRD（X射線衍射量測）和赤壁山XF XRF（X射線熒光光譜量測）；功率檢測產品包括RATE-CP（晶圓電性能檢測）、RATE-KGD（功率Die電性能檢測）和RATE-FT（功率單管和模組電性能電測）。

值得一提的是，此次新凱來推出的EPI，也是國內半導體設備龍頭中微公司、北方華創的發力方向。

北方華創（002371.SZ，股價415.9元，市值2220.5億元）2023年年報顯示：“外延（EPI）設備是材料生長的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、功率半導體、化合物半導體等領域。截至2023年底，北方華創已發布20余款量產型外延設備，累計出貨超1000腔。公司自主研發的12英寸常壓硅外延設備，實現了對邏輯芯片、存儲芯片、功率器件及特色工藝的全覆蓋，且已全部成功量產，成為客戶的基線產品?！?/p>

中微公司（688012.SH，股價184.31元，市值1147.08億元）早在2023年2月的投資者關系活動記錄表中就表示：“（公司）有超過十年做單晶硅外延設備的經驗，所以我們現在緊鑼密鼓開發在硅和鍺硅方面在集成電路需要的EPI設備。因為我們有長足的薄膜設備經驗，我們有信心能開發出很好的EPI設備?！绷頁形⒐?024年業績快報：“公司EPI設備已順利進入客戶端量產驗證階段。”

此外，中微公司也在積極拓展量檢測業務。中微公司2024年12月公告顯示：“隨著微觀器件越做越小，檢測設備也成為更關鍵的設備，市場增長速度很快，成為占半導體前道設備總市場約11%的第四大設備門類。檢測設備市場主要分為光學檢測設備和電子束檢測設備，其中公司已通過投資布局了光學檢測設備板塊，而超微公司（中微公司控股子公司）計劃開發電子束檢測設備，將不斷擴大對多種檢測設備的覆蓋。電子束量檢測設備是芯片制造和先進封裝工藝過程良率控制的關鍵設備，對我國發展以人工智能為代表的新質生產力至關重要，是我國的短板之一，亟待實現零的突破?！?/p>

(內容來源：每經記者 朱成祥 圖片來源：每經記者 朱成祥 攝）

深企新凱來首次公開亮相即出圈，負責人現場解碼核心技術

在上海國家會展中心舉行的2025中國國際半導體設備和材料展（SEMICON China 2025）上，深圳新凱來工業機器有限公司（SiCarrier，以下簡稱“新凱來”）展示了多款新品，成為全場焦點。

圖源 / 第一財經

新凱來 是一家以從事計算機、通信和其他電子設備制造業為主的企業。 此前，該公司一直保持著低調的姿態，網絡曝光度非常低，大多都是其專利信息。

此次新凱來首次公開亮相，就帶來了四大類（擴散、刻蝕、薄膜和量檢測）產品展示涵蓋了EPI、RTP、ETCH、CVD、PVD、ALD、光學量檢測、PX量測和功率檢測應用在內的三十款左右設備。

其中，備受矚目的新品EPI“峨眉山”產品、ETCH“武夷山”產品、CVD“長白山”產品、PVD“普陀山”產品、ALD“阿里山”產品，均以中國名山命名，技術對標國際頂尖水平。證券時報旗下新媒體“券商中國”援引分析人士認為，新凱來有可能再度拉高中國科技的熱度。

半導體行業進入先進工藝時代

新凱來以技術創新應對挑戰

作為芯片供應鏈上的核心環節，芯片設備是整個制造流程的基石。隨著芯片工藝的不斷演進，對設備的要求也在持續提升，尤其是先進工藝的推進，更是對半導體設備的迭代提出了嚴峻挑戰。

新凱來如何應對這一挑戰？

在今年Semicon China同期舉辦的IC產業鏈國際論壇-制造設備與制程分論壇上，新凱來工藝裝備產品線總裁杜立軍發布了題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講。杜立軍表示，新凱來正在利用多重圖形曝光等技術提升芯片制造工藝。

隨著晶體管的結構越來越立體，尺寸越來越小，芯片承載的晶體管數量從數十億躍升至數百億，也給芯片的制造工藝帶來前所未有的挑戰。杜立軍在技術分享中表示，半導體行業進入到先進工藝時代，芯片制造將主要圍繞著晶體管的尺寸微縮和RC delay（延遲電路）這兩個方面來解決問題。

深圳市新凱來技術有限公司官網

他提出，芯片制造工藝面臨幾大挑戰。例如在介質薄膜沉積工藝方面，面臨材料多元化、高臺階覆蓋率和高刻蝕選擇比的難題；金屬互連工藝的演進也要求擁有更小的關鍵尺寸和更高的RC挑戰；金屬氣相沉積（CVD）技術也給新材料和高選擇性沉積提出了迫切需求。

杜立軍表示，新凱來在考慮如何利用人工智能調優來提升效率，從硬件和算法上進行投入。 例如，公司已經打造了一個覆蓋原子的物理模型到腔式化學反應模型的仿真軟件。

“在半導體設備方面，新凱來在系統架構、硬件、器件和算法方面全面布局?！?/strong>杜立軍說。

深圳市新凱來技術有限公司官網

（內容綜合自：第一財經、券商中國）

上海半導體展，深圳國產半導體設備“芯貴”被圍觀

3月26日，2025中國國際半導體設備和材料展（SEMICON China 2025）在上海國家會展中心舉行。

深視新聞記者注意到，在這個全球半導體產業中極具影響力的年度盛會中，一家此前鮮少露面的中國公司——深圳新凱來工業機器有限公司（以下簡稱“新凱來”）成為全場焦點。

會場內，展位參觀者絡繹不絕，現場發布的一連串新品，更是成為大家爭相拍攝記錄的對象；會場外，多家半導體行業專業媒體、財經專業媒體相繼發出專門報道，聚焦這家來自深圳的“半導體新貴”。

圖源 / 半導體產業縱橫

本次新凱來通過照片和模型的方式展示了其多款產品，其中關注度最高的當屬EPI“峨眉山”產品、ETCH“武夷山”產品、CVD“長白山”產品、PVD（普陀山）產品、ALD“阿里山”產品。

據了解，EPI外延層是半導體制造中的重要技術，尤其是在先進制程和第三代半導體領域。ETCH蝕刻是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一道相當重要的步驟，是與光刻相聯系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝，目前主要由國際巨頭主導；CVD化學氣相沉積是半導體制造中需求量最大的設備之一，PVD物理氣相沉積、ALD原子層沉積等都是半導體制造工藝當中非常重要的高端設備。

圖源 / 半導體產業縱橫

新凱來此次亮相，為何吸引如此高的關注？這家新銳國產半導體設備廠商，究竟什么來頭？

據天眼查數據顯示，新凱來工業機器成立于2022年，注冊資本超10億元；其母公司新凱來技術有限公司則成立于2021年，注冊資本15億元。

據新凱來技術的官網顯示，該公司致力于半導體裝備及零部件、電子制造設備的研發、制造、銷售與服務。為半導體行業客戶提供創新技術與產品解決方案，持續支撐行業健康發展。將國內最優秀的電子制造解決方案和生產測試裝備推介給行業客戶，促進產業能力提升。

公司核心團隊具備20年以上電子設備技術開發經驗，并聯合了眾多國內半導體制造設備和零部件合作伙伴，為國內半導體設備廠、FAB廠、電子電器設備廠、研究機構提供先進的解決方案，相關產品廣泛應用于國內頂級制造企業和研究、測試機構。

深圳新凱來技術有限公司官網

在 AI、智能汽車、機器人等前沿科技蓬勃發展的浪潮中，半導體產業正迎來前所未有的機遇與挑戰。

“當前首要解決先進制程問題，國外工藝節點已經走的更領先，我們也會朝這個方向持續地努力，這需要時間，但我們有信心。”新凱來量檢測設備產品線負責人酈舟劍在接受媒體采訪時表示。

(內容來源：深圳衛視深視新聞 部分來源 / 趨勢捕捉 財聯社 新浪財經）

來源：深圳夢（微信號ID：SZeverything）綜合

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