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在全çƒèƒ½æºè½‰åž‹èˆ‡ç¶ è‰²åˆ¶é€ æµªæ½®çš„æŽ¨å‹•ä¸‹ï¼Œæ°®åŒ–éŽµåŠŸçŽ‡çµ„ä»¶æ†‘å€Ÿå…¶é«˜é »ã€é«˜æ•ˆã€ä½Žæè€—的特性,æˆç‚ºæ›¿ä»£å‚³çµ±ç¡…åŸºå™¨ä»¶çš„ç†±é–€é¸æ“‡ã€‚ç„¶è€Œï¼Œç¾æœ‰GaN組件å—é™äºŽæ°´å¹³çµæ§‹è¨è¨ˆï¼Œé›£ä»¥å¯¦ç¾èˆ‡å‚³çµ±ç¡…基或碳化硅組件相åŒçš„å°è£å…¼å®¹æ€§ï¼Œå°Žè‡´ç³»çµ±å‡ç´šæˆæœ¬é«˜ã€è¨è¨ˆå¾©é›œã€‚
臺ç£å˜‰å’ŒåŠå°Žé«”股份有é™å…¬å¸ï¼ˆGaNrich Semiconductor Corp. 以下簡稱:GaNrich)憑借ç¨ç‰¹çš„è—寶石基氮化鎵(GaN on Sapphire)技術,推出å¯ç„¡ç¸«æ›¿æ›å‚³çµ±ç¡…åŸºèˆ‡ç¢³åŒ–ç¡…çµ„ä»¶çš„æ°®åŒ–éŽµåŠŸçŽ‡å™¨ä»¶ï¼Œä¸€èˆ‰æ‰“ç ´è¡Œæ¥æ¡Žæ¢ï¼Œç‚ºAIæœå‹™å™¨ã€å·¥æ¥é›»æºã€æ–°èƒ½æºç‰é ˜åŸŸå¸¶ä¾†é¡›è¦†æ€§è§£æ±ºæ–¹æ¡ˆã€‚
GaNrich è—寶石基氮化鎵
GaNrich 推出的“GaN on Sapphireâ€æŠ€è¡“ï¼Œé‡‡ç”¨ç¨ç‰¹çš„åž‚ç›´çµæ§‹è¨è¨ˆï¼Œçµåˆè—寶石優異的散熱性能與絕緣特性,å¯ä»¥æœ‰æ•ˆéš”離主控芯片與其他å°è£å…ƒä»¶ä¹‹é–“的干擾,實ç¾äº†å¤šé …技術創新:
無縫替æ›ï¼Œç³»çµ±å‡ç´šé›¶é–€æª»
傳統GaNçµ„ä»¶å› å°è£èˆ‡é©…å‹•æ–¹å¼å·®ç•°ï¼Œéœ€é‡æ–°è¨è¨ˆPCBå¸ƒå±€ï¼Œå°Žè‡´å®¢æˆ¶æˆæœ¬æ¿€å¢žã€‚GaNrich è—寶石基æ¿çµ„件通éŽâ€œPin to Pinâ€å°è£è¨è¨ˆï¼Œå¯ç›´æŽ¥æ›¿æ›ç¾æœ‰ç¡…基或碳化硅MOSFET,完全復用原有驅動系統和PCB布局,無需é¡å¤–驅動芯片且無需更改系統架構。據了解,GaNrich 推出的 650V GaN FET 采用TO-247ã€TO-220ç‰æ¨™æº–å°è£ï¼Œå…¼å®¹ 3-4V 的主æµé©…動電壓,客戶僅需更æ›çµ„ä»¶å³å¯æœ‰æ•ˆæå‡èƒ½æ•ˆã€‚
高å¯é 性,çªç ´æ•£ç†±ç“¶é ¸
得益于è—å¯¶çŸ³çš„ä»‹é›»å¸¸æ•¸ä½ŽäºŽç¡…ï¼Œå¯æœ‰æ•ˆæ¸›å°‘æ¼é›»æµï¼Œæé…TOLLã€TOLTç‰é›™é¢æ•£ç†±å°è£ï¼Œç†±é˜»è¼ƒå‚³çµ±å°è£å¯é™ä½Ž50%。在數據ä¸å¿ƒé›»æºç‰é«˜å¯†åº¦æ‡‰ç”¨ä¸ï¼Œçµ„ä»¶å¯åœ¨175°C高溫下穩定é‹è¡Œï¼Œæ»¿è¶³AIæœå‹™å™¨å°é«˜åŠŸçŽ‡å¯†åº¦èˆ‡æ•£ç†±æ•ˆçŽ‡çš„åš´è‹›éœ€æ±‚ã€‚
æˆæœ¬å„ªå‹¢ï¼ŒåŠ é€Ÿå¸‚å ´åŒ–æ™®åŠ
GaNrich è—寶石基æ¿åˆ¶ç¨‹æ²¿ç”¨LEDç”¢æ¥æˆç†Ÿå·¥è—,良率高且無需昂貴襯底å‰é›¢æŠ€è¡“。相較å‹å•†çš„GaN on SiC方案,GaNrichçš„æˆæœ¬å¾—到了有效的é™ä½Žï¼Œæ˜¯ä¸é«˜å£“å¸‚å ´ï¼Œå¦‚é›»å‹•æ±½è»Šå……é›»æ¨ã€å…‰ä¼é€†è®Šå™¨ç‰é ˜åŸŸçš„ç†æƒ³é¸æ“‡ã€‚
主動ä¿è·æ©Ÿåˆ¶ï¼Œæ™ºèƒ½é˜²å¾¡ç•°å¸¸å·¥æ³
憑借è—寶石高度絕緣特性,GaNrich 首創集æˆéŽæº«ä¿è·ã€çŸè·¯ä¿è·çš„æ™ºèƒ½GaN FET。當溫度或電æµè¶…éŽé–¾å€¼æ™‚,組件自動觸發ä¿è·é›»è·¯ï¼Œé¿å…系統失效。æ¤é …技術尤其é©ç”¨äºŽå·¥æ¥é›»æ©Ÿé©…動與儲能系統,å¯å¤§å¹…é™ä½Žç¶è·æˆæœ¬ã€‚
GaNrich 650V GaN FET 產å“列表
在具體的產å“上,GaNrich 在臺ç£çŽ‡å…ˆæŽ¨å‡ºä»¥è—寶石基æ¿åˆ¶ç¨‹ä¹‹æ°®åŒ–éŽµçµ„ä»¶ï¼Œå¯æä¾›GaN on Sap D-modeã€GaN on Si E-modeçš„ GaN FET åŠ GaN IC ,是臺ç£å¸‚å ´å”¯ä¸€èƒ½å…¨é¢ä¾›æ‡‰æ¤é¡žå¤šå…ƒç”¢å“的公å¸ã€‚
以上為 GaNrich 650V GaN FET產å“列表,支æŒ45 - 231mΩ導通電阻,é©ç”¨äºŽLLC諧振拓撲與圖騰柱PFCé›»è·¯ï¼Œå¯æ›¿ä»£ç¡…基IGBT,有效æå‡é–‹é—œé »çŽ‡ã€‚
除æ¤ä¹‹å¤–ï¼Œåœ¨é«˜å£“é ˜åŸŸï¼ŒGaNrich æŽ¨å‡ºå¤šå…ƒé¸æ“‡ï¼Œé‡å°ä¸åŒçš„æ‡‰ç”¨å ´æ™¯æŽ¨å‡ºå¤šç¨®å°è£æ–¹æ¡ˆï¼Œå¦‚TOLLã€TOLTã€TO-247åŠTO-220系列ç‰ã€‚
而在ä¸ä½Žå£“é ˜åŸŸï¼Œé‡å°ä»¥å¾€ä¸ä½Žå£“氮化鎵組件å˜åœ¨æ•£ç†±ä¸ä½³èˆ‡é©…動䏿˜“ç‰ç¼ºé»žï¼ŒGaNrich åœ¨è‡ºç£æ¶å…ˆæŽ¨å‡º40-300Vçš„E-HEMT組件,大幅æå‡æ•£ç†±èƒ½åŠ›èˆ‡é©…å‹•ä¾¿åˆ©æ€§ï¼Œå¡«è£œå¸‚å ´ç©ºç¼ºï¼Œå¯ç‚ºæœªä¾†AIé›»æºã€å„²èƒ½ã€æ©Ÿå™¨äººã€ç„¡äººæ©ŸåŠå·¥æ¥ç‰æ‡‰ç”¨æä¾›æœ€é«˜æ•ˆèƒ½èˆ‡åŠŸçŽ‡å¯†åº¦è§£æ±ºæ–¹æ¡ˆã€‚
åŒæ™‚ GaNrich 還計劃在今年第三å£åº¦æŽ¨å‡ºé›™å‘導通氮化鎵高壓組件,使用單一組件å³å¯å–代傳統四顆ç¨ç«‹å™¨ä»¶ï¼Œå¤§å¹…æå‡åŠŸçŽ‡å¯†åº¦èˆ‡èŠ¯ç‰‡é¢ç©åˆ©ç”¨çŽ‡ï¼Œé©ç”¨äºŽå„²èƒ½ç³»çµ±èˆ‡è»Šè¼‰OBC,芯片利用率å¯å¤§å¹…æå‡ã€‚
關于嘉和åŠå°Žé«”
嘉和åŠå°Žé«”æˆç«‹äºŽ2020年,公å¸å‰èº«ç‚ºLEDé ˜åŸŸçš„æŠ€è¡“å…ˆé©…ï¼Œå€šä»—å¤šå¹´ä¸‰äº”æ—åŠå°Žé«”ç™¼å±•ç¶“é©—ï¼Œé€æ¥å°‡æ¥å‹™æ‹“å±•è‡³æ°®åŒ–éŽµåŠŸçŽ‡çµ„ä»¶é ˜åŸŸã€‚ä½œç‚ºè‡ºç£å”¯ä¸€æä¾›å…‰ç½©è¨è¨ˆã€å°è£ã€ç³»çµ±æ¨¡å¡Šé›†æˆåŠå¯é 性驗è‰çš„å…¨æ–¹ä½æœå‹™å•†ï¼Œå˜‰å’Œæ“æœ‰å¤šé …æ ¸å¿ƒå°ˆåˆ©ï¼Œå¹¶æ§‹å»ºäº†å®Œæ•´çš„ç”¢æ¥éˆå”作體系,涵蓋外延片(EPIï¼‰ã€æ™¶åœ“代工ã€å°è£æ¸¬è©¦ç‰ç’°ç¯€ã€‚
å……é›»é 網總çµ
在功率åŠå°Žé«”é ˜åŸŸï¼Œæ¯ä¸€æ¬¡ææ–™é©æ–°éƒ½ä¼´éš¨è‘—產æ¥éˆçš„釿§‹èˆ‡å¸‚å ´æ ¼å±€çš„æ´—ç‰Œã€‚GaNrich çš„è—å¯¶çŸ³åŸºæ¿æ°®åŒ–鎵技術,ä¸åƒ…解決了行æ¥é•·æœŸé¢è‡¨çš„兼容性與å¯é æ€§é›£é¡Œï¼Œæ›´ä»¥æˆæœ¬å„ªå‹¢æŽ¨å‹•高壓GaNçµ„ä»¶èµ°å‘æ™®åŠï¼Œç‚ºé«˜åŠŸçŽ‡å’Œé«˜æ•ˆçŽ‡æ‡‰ç”¨æä¾›äº†å…¨æ–°çš„解決方案。
æ£å¦‚å…¶å“牌å£è™Ÿâ€œLet’s GaN access to innovationâ€ï¼Œé€™å®¶è‡ºç£æ–°éг伿¥æ£ä»¥æŠ€è¡“ç¡¬å¯¦åŠ›ï¼Œé‡æ–°å®šç¾©åŠŸçŽ‡åŠå°Žé«”çš„ç«¶çˆæ ¼å±€ï¼Œç‚ºå…¨çƒèƒ½æºè½‰åž‹æ³¨å…¥å¼·å‹å‹•力。
ç‰¹åˆ¥è²æ˜Žï¼šä»¥ä¸Šå…§å®¹(å¦‚æœ‰åœ–ç‰‡æˆ–è¦–é »äº¦åŒ…æ‹¬åœ¨å…§)為自媒體平臺“網易號â€ç”¨æˆ¶ä¸Šå‚³å¹¶ç™¼å¸ƒï¼Œæœ¬å¹³è‡ºåƒ…æä¾›ä¿¡æ¯å˜å„²æœå‹™ã€‚
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