這幾天，中國光刻機制程突破，進入8納米的新聞讓人激動。

這確實是一個好消息，突破歐美日韓卡脖子，實現芯片自主生產可控確實讓人興奮。

但興奮歸興奮，一些明白人也趁機站出來潑冷水：說此8納米非彼8納米，我們離光刻機自由還差著十萬八千里。

唱衰之聲因此漸起，這是很不好的。

基于此，童子想著稍微梳理下和朋友們講清楚：這個突破到底是怎樣一個突破，距離到底又是個怎樣一個距離。

我們不急于尖叫，但也不至于妄自菲薄。

這幾天工業信息化部發布了一份令人激動的目錄，《“首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》，其中就包含了兩臺光刻機設備，讓人興奮和容易引起誤會的就是那臺氟化氬光刻機，標注的是套刻8納米。

很多自媒體和讀者因此產生誤解，認為這套光刻機制程已經達到8納米，實則不然。

套刻(overlay )8納米，指的是在半導體制造過程中，使用光刻機進行多層圖案化時，各層之間對準精度的指標。

就是說在制造過程中，需要在硅片的不同層上形成圖案時，新一層的圖案相對于前一層圖案的位置偏差（即套刻誤差）不超過8納米。

聽著暈，舉個例子就清楚了：芯片是一層一層堆起來的，這就像蓋大樓。

套刻錯位誤差不超過8納米，就是說兩層樓之間窗戶開洞的位置誤差不超過8納米；而我們平時說的8納米制程，其實關心的不是兩層之間的窗戶，而是每層樓里這個固定的面積里，到底有多能裝，公攤大不大。

咱們就讓每一層樓里人擠人、人挨人站著，那么每層樓里最多能裝下多少人，是取決于每一個人的胖瘦，也就是那個真正的光刻制程了。

第一層沒刻好，誤差大了，胖子瘦子都有，只能放100個人進去，有效面積浪費了；下一層刻好了，誤差小了，都是一個模子的瘦子，能放150人進去，有效面積合理利用了。

最完美的情況，肯定是能每一層都能放進去150個瘦子，瘦胖都一樣，能刻出來一樣的瘦子，每個瘦子都盡可能的瘦。

這就是我們真正關注的那個制程8納米，這樣說大家應該理解了吧。

現在的套刻8納米和制程8納米，有沒有什么關系呢？到底相當于制程里的幾納米呢？

這是一個好問題。其實在芯片制造中，套刻精度與量產工藝之間確實存在一定的關系。

一般認為，套刻精度與量產工藝節點之間大約有1:3的關系。也就是說，如果套刻精度達到了8納米，則理論上該光刻機可以支持制造24納米左右的芯片。

24納米可以實現，這就意味著28納米就是保質保量完成了；而28 納米制程，就是芯片中低端和中高端的分界線。

能做28納米，它意味著國家工業可以獨立了。中國生產的空調、洗衣機、電冰箱、汽車等各類工業品，可以突破西方國家設置的重重封鎖，自主生產銷售。

咱們以后買到的就都可以是純血國產貨了，產品售價可能會進一步下降。

還有一點，套刻這個技術并沒有那么不堪。

精度不斷提高，是有助于推動更先進工藝節點的研發與量產的，比如7納米及以下的制程。

套刻精度不斷提高意味著制程在一定程度上可以再來點提高。

這是一件極好極好的事情。

所以，中國光刻機突破套刻8納米，我們既不應該急于尖叫，也不應該妄自菲薄。

平常心。靜待中國半導體的崛起，再崛起，真正成為全球領先。